本发明公开了一种在硅片上制备抗反射层的方法，该方法包括制备绒面及电化学刻蚀两步骤，其绒面制备已在该领域广泛应用；电化学刻蚀是将具有绒面结构的硅片装入电化学刻蚀反应装置中，使硅片一面接触饱和食盐水，另一面接触刻蚀液，饱和食盐水接电极正极，刻蚀液接电极负极，反应装置由控制系统(Labview)控制，在控制系统中设定电化学刻蚀参数，开启控制系统，进行电化学刻蚀，在硅片上制得抗反射层。本发明制得的硅片用在太阳能电池中，一方面能降低光的反射，有利于光的吸收，另一方面，由于光电化学刻蚀工艺上的简单性及可重复性，且光电化学刻蚀的工艺成本低，对太阳能电池产业的发展具有极大的促进作用。