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发明授权
CN101681121B 曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 失效 - 权利终止

  • 专利标题： 曝光装置、曝光方法以及器件制造方法
  • 专利标题（英）： Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
  • 申请号： CN200880019453.1
    申请日： 2008-12-12
  • 公开(公告)号： CN101681121B
    公开(公告)日： 2012-09-26
  • 发明人: 柴崎祐一
  • 申请人： 株式会社尼康
  • 申请人地址： 日本东京
  • 专利权人： 株式会社尼康
  • 当前专利权人： 株式会社尼康
  • 当前专利权人地址： 日本东京
  • 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
  • 代理商 吕林红
  • 优先权： 61/006,030 2007.12.14 US; 12/331,863 2008.12.10 US
  • 国际申请： PCT/JP2008/073132 2008.12.12
  • 国际公布： WO2009/078473 EN 2009.06.25
  • 进入国家日期： 2009-12-09
  • 主分类号： G03F7/20
  • IPC分类号： G03F7/20
曝光装置、曝光方法以及器件制造方法
摘要：
在载台(WST2)上搭载2个X读头(EX1、EX2)与1个Y读头(EY)，并将与这些读头对应的X标尺(SX2)与Y标尺(SY2)以连结曝光区域与对准区域的方式与载台(WST2)相对设置。一边使用3个编码器读头(EX1、EX2、EY)进行位置测量、一边使载台(WST2)沿着标尺(SX2、SY2)的设置路径在曝光区域与对准区域之间来回移动。如此，无需XZ干涉仪(116、117)间、及XZ干涉仪(126、127)间的切换处理，且能使用测量区域相异的2个位置测量系统稳定且高精度地测量于XY平面内移动的载台的位置。
摘要（英）：

Two X heads (EX1, EX2) and one Y head (EY) are mounted on a stage (WST2), and an X scale (SX2) and a Y scale (SY2) corresponding to these heads are arranged facing the stage (WST2) so that the scales connect the exposure area and the alignment area. The stage (WST2) is made to move back and forth between the exposure area and the alignment area along a path where the scales (SX2, SY2) are set, while performing position measurement using three encoder heads (EX1, EX2, EY). Accordingly, a switching process between XZ interferometers (116, 117) and between XZ interferometers (126, 127) will not be necessary, and also it becomes possible to measure the position of the stage, which moves within the XY plane, in a stable manner and with high precision, using two position measurement systems having different measurement areas.

公开/授权文献
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