• 专利标题: 一种光子晶体微腔结构及其制作方法
  • 专利标题(英): Photonic crystal micro-cavity structure and manufacturing method thereof
  • 申请号: CN200910235973.2
    申请日: 2009-11-03
  • 公开(公告)号: CN101718939B
    公开(公告)日: 2011-08-24
  • 发明人: 富聿岚胡小永龚旗煌
  • 申请人: 北京大学
  • 申请人地址: 北京市海淀区颐和园路5号北京大学
  • 专利权人: 北京大学
  • 当前专利权人: 北京大学
  • 当前专利权人地址: 北京市海淀区颐和园路5号北京大学
  • 代理机构: 北京君尚知识产权代理事务所
  • 代理商 邵可声
  • 主分类号: G02F1/35
  • IPC分类号: G02F1/35
一种光子晶体微腔结构及其制作方法
摘要:
本发明公开了一种光子晶体微腔结构及其制作方法,属于光电子技术领域。本发明的光子晶体微腔结构,包括有机覆盖层、衬底和位于所述有机覆盖层与所述衬底之间的半导体光子晶体微腔;所述有机覆盖层为非线性有机共轭聚合物;本发明的方法为:1)在衬底上生长一层半导体薄膜;2)在半导体薄膜上刻蚀光子晶体微腔结构;3)在光子晶体微腔结构上制备一层有机覆盖层;所述有机覆盖层为非线性有机共轭聚合物。与现有技术相比,本发明的光子晶体微腔制备的光开关具有高Q值、低泵浦功率低功率、开关时间响应快的特点,同时加工和制备方便,非常利于集成。
公开/授权文献
0/0