发明公开
CN101726442A 柔性电子基板上薄膜材料可靠性原位评价系统及方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 柔性电子基板上薄膜材料可靠性原位评价系统及方法
- 专利标题(英): In situ evaluation system and method of reliability of thin-film materials on flexible electronic substrate
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申请号: CN200810228254.3申请日: 2008-10-24
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公开(公告)号: CN101726442A公开(公告)日: 2010-06-09
- 发明人: 张广平 , 朱晓飞 , 张滨
- 申请人: 中国科学院金属研究所
- 申请人地址: 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
- 专利权人: 中国科学院金属研究所
- 当前专利权人: 中国科学院金属研究所
- 当前专利权人地址: 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
- 代理机构: 沈阳科苑专利商标代理有限公司
- 代理商 张志伟
- 主分类号: G01N3/20
- IPC分类号: G01N3/20
摘要:
本发明涉及对薄膜材料弯曲断裂性能测试装置和测试方法的建立,具体为一种柔性电子基板上具有微米至纳米厚度的单层或多层薄膜材料力学可靠性的原位评价系统及方法。该系统包括高精度螺旋测微器、平衡弹簧、平动滑块及简支梁固定端和简支梁可动端等,通过螺旋测微器向薄膜与柔性基体组成的复合梁施加精确可控的步进位移来实施简支梁弯曲实验,根据简支梁跨距和试样尺寸等参数及几何关系计算出与简支梁跨距对应的实时施加应变,结合原位微观观察及随后的扫描电镜表征,对此类薄膜弯曲断裂性能和临界开裂应变值进行测试与评价。本发明无需考虑薄膜材料的导电性,对于非导电薄膜材料仍然适用。实验操作简单快捷,可对样品进行原位实时定位观测与分析。
公开/授权文献
- CN101726442B 柔性电子基板上薄膜材料可靠性原位测试系统及方法 公开/授权日:2011-09-21