发明公开
- 专利标题: 化合物及含有该化合物的化学增幅光刻胶组合物
- 专利标题(英): Compound and chemically amplified resist composition containing the same
-
申请号: CN200910211961.6申请日: 2009-12-08
-
公开(公告)号: CN101747310A公开(公告)日: 2010-06-23
- 发明人: 武元一树 , 安藤信雄
- 申请人: 住友化学株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 住友化学株式会社
- 当前专利权人: 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 吴孟秋; 梁韬
- 优先权: 2008-315991 2008.12.11 JP
- 主分类号: C07D311/96
- IPC分类号: C07D311/96 ; C07D311/64 ; C07D311/60 ; G03F7/039
摘要:
本发明提供了由式(I)表示的化合物以及含有该化合物的化学增幅光刻胶组合物:其中P1、P2、P3、P4和P5各自独立地表示氢原子等,而选自由R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9组成的组中的至少一个是由式(II)表示的基团:其中X1和X2各自独立地表示氢原子等,n表示1~4的整数,Z1表示C1-C6烷基等,并且环Y表示脂环烃基,而其余的各自独立地表示氢原子、C1-C6烷基或羟基。