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扩散膜及其制造方法
摘要:
本发明提供一种扩散膜及其制造方法,其包含一基材及位于所述基材至少一侧的凹凸微结构层,所述扩散膜根据JIS K7136标准方法测量具有不小于5%的雾度及不小于50%的全光线透过率,所述凹凸微结构层是通过使用包含与基材主成分相同或相似的材料所构成的聚合物及一种与所述聚合物不兼容的材料的涂料组合物,及将所述组合物涂布在基材上所形成。
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