发明公开
- 专利标题: 小孔径核孔滤膜及其生产方法
- 专利标题(英): Small-bore nuclear pore filter membrane and production method thereof
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申请号: CN200910259469.6申请日: 2009-12-22
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公开(公告)号: CN101766959A公开(公告)日: 2010-07-07
- 发明人: 罗勇 , 吴其玉 , 杨建利
- 申请人: 武汉智迅创源科技发展有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东西湖区金银湖环湖中路18号
- 专利权人: 武汉智迅创源科技发展有限公司
- 当前专利权人: 武汉智迅创源科技发展股份有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东西湖区金银湖环湖中路18号
- 代理机构: 北京中伟智信专利商标代理事务所
- 代理商 张岱
- 主分类号: B01D69/00
- IPC分类号: B01D69/00 ; B01D71/48
摘要:
本发明公开一种小孔径核孔滤膜及其生产方法,用于解决现有的生产工艺不能生产出孔径介于φ0.03~φ2μm之间的柱状核孔滤膜的问题。该方法包括以下步骤:以高能硫离子辐照薄膜,形成柱状损伤区;在氧气浓度不低于2/5的含氧的环境下,将上述离子辐照后的薄膜紫外辐照1~2小时;将紫外辐照后的薄膜在通风环境下陈化1~2月;将陈化后的薄膜放入带超声波装置的碱性蚀刻槽蚀刻,蚀刻时持续以超声波振荡碱性蚀刻液,蚀刻后制得孔径为φ0.03~φ2μm的柱状核孔滤膜。而且该方法简单,成本低,可以大量普及并实现产业化。
公开/授权文献
- CN101766959B 小孔径核孔滤膜及其生产方法 公开/授权日:2012-01-11