小孔径核孔滤膜及其生产方法
摘要:
本发明公开一种小孔径核孔滤膜及其生产方法,用于解决现有的生产工艺不能生产出孔径介于φ0.03~φ2μm之间的柱状核孔滤膜的问题。该方法包括以下步骤:以高能硫离子辐照薄膜,形成柱状损伤区;在氧气浓度不低于2/5的含氧的环境下,将上述离子辐照后的薄膜紫外辐照1~2小时;将紫外辐照后的薄膜在通风环境下陈化1~2月;将陈化后的薄膜放入带超声波装置的碱性蚀刻槽蚀刻,蚀刻时持续以超声波振荡碱性蚀刻液,蚀刻后制得孔径为φ0.03~φ2μm的柱状核孔滤膜。而且该方法简单,成本低,可以大量普及并实现产业化。
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