发明公开
- 专利标题: 通过干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法
- 专利标题(英): Process for manufacturing multi-layered thin film by dry vacuum vapor deposition
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申请号: CN200880101661.6申请日: 2008-07-31
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公开(公告)号: CN101784692A公开(公告)日: 2010-07-21
- 发明人: 金炫中 , 金洪彻 , 金正来
- 申请人: 株式会社世可
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 株式会社世可
- 当前专利权人: 株式会社世可
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 柳冀
- 优先权: 10-2007-0077906 2007.08.02 KR
- 国际申请: PCT/KR2008/004470 2008.07.31
- 国际公布: WO2009/017376 EN 2009.02.05
- 进入国家日期: 2010-02-02
- 主分类号: C23C14/00
- IPC分类号: C23C14/00
摘要:
本发明涉及通过使用干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法,特别地,其涉及通过使用稳定且简单的干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法,该方法能够为移动电话、MP3播放器、便携式多媒体播放器(PMP)、数字多媒体广播(DMB)收音机、汽车导航系统、笔记本电脑等的外壳、窗口、键盘、功能键部件、各种附属部件等提供视觉上的美感和奢华的印象。
公开/授权文献
- CN101784692B 通过干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法 公开/授权日:2013-03-20
IPC分类: