- 专利标题: 静电吸盘装置中的气体供给结构的制造方法及静电吸盘装置气体供给结构以及静电吸盘装置
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申请号: CN200880105961.1申请日: 2008-09-03
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公开(公告)号: CN101796626B公开(公告)日: 2012-02-01
- 发明人: 宫下欣也 , 渡边喜裕
- 申请人: 创意科技股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 创意科技股份有限公司
- 当前专利权人: 创意科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 王永刚
- 优先权: 2007-262714 2007.09.06 JP
- 国际申请: PCT/JP2008/065836 2008.09.03
- 国际公布: WO2009/031566 JA 2009.03.12
- 进入国家日期: 2010-03-05
- 主分类号: H01L21/683
- IPC分类号: H01L21/683 ; H02N13/00
摘要:
本发明提供一种静电吸盘装置、静电吸盘装置气体供给结构以及其制造方法,该静电吸盘装置具备静电吸盘,防止冷却气体喷出量不均匀和喷镀材料等堆积导致污染。该气体供给结构用于将从金属底座的下表面侧供给的冷却气体通过金属底座具备的气体供给通路供给到在上部绝缘层侧吸附的基板的背面。在进行在金属底座的上表面侧喷镀陶瓷粉末而形成下部绝缘层的工序、形成吸附电极的工序、以及形成上部绝缘层的工序之前,用包含由与下部绝缘层的形成中采用的陶瓷粉末相同的材料构成的填充材料的粘接剂封闭金属底座的上表面侧的气体供给通路出口;在形成上部绝缘层后,从上部绝缘层侧向金属底座的气体供给通路出口开孔,形成连通气体供给通路的贯通孔。
公开/授权文献
- CN101796626A 静电吸盘装置中的气体供给结构的制造方法及静电吸盘装置气体供给结构以及静电吸盘装置 公开/授权日:2010-08-04