发明授权
CN101802254B 化学气相沉积反应器
失效 - 权利终止
- 专利标题: 化学气相沉积反应器
- 专利标题(英): Chemical vapor deposition reactor
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申请号: CN200880106034.1申请日: 2008-10-09
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公开(公告)号: CN101802254B公开(公告)日: 2013-11-27
- 发明人: 迈克尔·J·贝卡尼 , 弗兰克·J·卡姆帕纳勒
- 申请人: 瓦伦斯处理设备公司
- 申请人地址: 美国新泽西州
- 专利权人: 瓦伦斯处理设备公司
- 当前专利权人: 瓦伦斯处理设备公司
- 当前专利权人地址: 美国新泽西州
- 代理机构: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王达佐; 阴亮
- 优先权: 60/979,181 2007.10.11 US
- 国际申请: PCT/US2008/079301 2008.10.09
- 国际公布: WO2009/049020 EN 2009.04.16
- 进入国家日期: 2010-03-08
- 主分类号: C23C16/00
- IPC分类号: C23C16/00
摘要:
提供了CVD反应器,如进行外延层的金属有机化学气相沉积的MOCVD反应器。CVD或MOCVD反应器一般包括流量法兰组件、可调整的比例流喷射器组件、腔室组件和多节段中心旋转轴。反应器向用于减少气体使用并同时改善沉积的性能的特定元件提供新颖的几何形状。
公开/授权文献
- CN101802254A 化学气相沉积反应器 公开/授权日:2010-08-11
IPC分类: