利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
CN101812173A N-羟基马来海松酸酰亚胺酯缩醛聚合物及其制备方法 失效 - 权利终止

  • 专利标题： N-羟基马来海松酸酰亚胺酯缩醛聚合物及其制备方法
  • 专利标题（英）： N-hydroxy maleopimaric acid imide ester acetal polymer and preparation method thereof
  • 申请号： CN200910210501.1
    申请日： 2009-11-05
  • 公开(公告)号： CN101812173A
    公开(公告)日： 2010-08-25
  • 发明人: 王力元 , 翟晓晓
  • 申请人： 北京师范大学
  • 申请人地址： 北京市海淀区新街口外大街19号
  • 专利权人： 北京师范大学
  • 当前专利权人： 北京师范大学
  • 当前专利权人地址： 北京市海淀区新街口外大街19号
  • 主分类号： C08G63/685
  • IPC分类号： C08G63/685 ;  C08G63/688 ;  C08G63/664 ;  G03F7/004
N-羟基马来海松酸酰亚胺酯缩醛聚合物及其制备方法
摘要：
本发明涉及N-羟基马来海松酸酰亚胺酯缩醛聚合物及其合成方法。N-羟基马来海松酸酰亚胺和各种二乙烯基醚化合物在有机溶剂存在下加热反应得到新型的酯缩醛聚合物。此类聚合物易发生酸致分解反应，因此，由此类缩醛聚合物和光产酸剂等一起可组成新型正性感光成像材料，可用于超大规模集成电路加工用光致抗蚀剂(又称光刻胶)以及印刷PS版或CTP版材的成像材料。
摘要（英）：

The invention relates to an N-hydroxy maleopimaric acid imide ester acetal polymer and a synthetic method thereof. N-hydroxy maleopimaric acid imide and various divinyl ether compounds are heated to react under the existence of an organic solvent so as to obtain a novel ester acetal polymer. The polymer is easily decomposed by acid-induced reaction. Therefore, the acetal polymers, photoacid and other substances can form a novel positive sensitized imaging material which can be used as a photoresist (also named as optical resist) used for processing a super large-scale integrated circuit as well as an imaging material for printing PS or CTP image bases.

公开/授权文献
0/0