- 专利标题: 包含超晶格隔离层的大晶格失配外延材料缓冲层结构及其制备
- 专利标题(英): Macrolattice mismatch epitaxial material buffer layer structure containing superlattice isolated layer and preparation thereof
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申请号: CN200910198257.1申请日: 2009-11-03
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公开(公告)号: CN101814429A公开(公告)日: 2010-08-25
- 发明人: 顾溢 , 张永刚
- 申请人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 申请人地址: 上海市长宁区长宁路865号
- 专利权人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 当前专利权人地址: 上海市长宁区长宁路865号
- 代理机构: 上海泰能知识产权代理事务所
- 代理商 黄志达; 宋缨
- 主分类号: H01L21/203
- IPC分类号: H01L21/203
摘要:
本发明涉及一种包含超晶格隔离层的大晶格失配外延材料缓冲层结构及其制备,在组分渐变缓冲层中插入n层无应变的超晶格隔离层材料,n为自然数,1≤n≤5;其制备过程为:首先确定生长温度、束源炉温度等参数;然后采用分子束外延方法依次在衬底上交替生长应变量逐渐增大的缓冲层和无应变超晶格隔离层材料,直至完成达到预期应变量的缓冲层的生长。本发明的材料包含了超晶格隔离层,能使大晶格失配外延材料在缓冲层中快速有效地发生弛豫而释放应力,从而减少缓冲层上外延材料的位错密度;并且采用常规的分子束外延方法进行材料的不间断生长,具有操作易控制,成本低,对环境友好等优点。
公开/授权文献
- CN101814429B 包含超晶格隔离层的大晶格失配外延材料缓冲层结构及其制备 公开/授权日:2012-02-01