发明公开

高压均匀化装置
摘要:
本发明提供一种高压均匀化装置,在所述高压均匀化装置中,无需拆卸/重新安装增压机构,就能够容易地清洗原料容纳凹部。所述装置包括:高压均匀化机构(1),在所述高压均匀化机构(1)中,使包含原料(G)的悬浊液(2)或半流体(2′)通过孔(3),以便被细分;与高压均匀化机构(1)连通的原料容纳通路(8)。使插入构件(5)和原料处理活塞(4)之一彼此相对运动,从而,将包含原料的悬浊液或半流体被输送到原料容纳通路(8),以便将其细分和处理。当原料处理活塞被向后移动超过原料处理凹部的开口端(6a)时,清洗液体(W)被经由原料容纳通路(8)引入原料处理凹部,并清洗该原料处理凹部的内部。
公开/授权文献
0/0