发明授权
CN101844844B 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用
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申请号: CN200910010871.0申请日: 2009-03-25
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公开(公告)号: CN101844844B公开(公告)日: 2011-11-30
- 发明人: 于永辉 , 孙承林 , 杨旭 , 乔瑞平 , 臧广安 , 于波
- 申请人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 申请人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 代理机构: 沈阳科苑专利商标代理有限公司
- 代理商 马驰; 周秀梅
- 主分类号: C02F9/04
- IPC分类号: C02F9/04 ; C02F1/52 ; C02F1/66 ; C02F1/74 ; C02F11/12 ; C02F103/16
摘要:
本发明涉及一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用,包括电镀废水调节池、微孔曝气中和反应池、中间水池、混凝斜板沉淀池、污泥浓缩池、多介质过滤罐、清水池、氢氧化钙配药槽、氢氧化钠配药槽、聚丙烯酰胺配药槽、盐酸储槽、厢式压滤机、水泵、加药泵、鼓风机、浓浆泵;采用上述装置,通过微孔曝气中和反应+混凝斜板沉淀+多介质过滤组合工艺处理高浓度电镀废水。本发明处理高浓度电镀酸洗综合废水,去除效果显著,COD去除率达80%以上,石油类达95%以上,总磷、锌、铜、和总铁的去除率达99.5%以上,总铬的去除率达99%以上,镍的去除率达90%以上。本发明适用于高浓度电镀废水、酸洗废水的处理。
公开/授权文献
- CN101844844A 一种处理高浓度电镀废水的装置及其应用 公开/授权日:2010-09-29