发明授权
- 专利标题: 一种高真空衬氟设备
- 专利标题(英): High-vacuum fluorine-lined device
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申请号: CN201010173946.X申请日: 2010-05-17
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公开(公告)号: CN101850236B公开(公告)日: 2011-08-17
- 发明人: 顾秋林 , 何正纲
- 申请人: 浙江东氟塑料科技有限公司
- 申请人地址: 浙江省衢州市高新技术产业园区华荫北路6号
- 专利权人: 浙江东氟塑料科技有限公司
- 当前专利权人: 浙江东氟塑料科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省衢州市高新技术产业园区华荫北路6号
- 代理机构: 杭州杭诚专利事务所有限公司
- 代理商 尉伟敏
- 主分类号: B01J19/18
- IPC分类号: B01J19/18 ; B01J19/02 ; B01J3/03
摘要:
本发明公开了一种真空衬氟设备,提供了一种结构简单、使用效果好、延长使用寿命,可在强腐蚀、高温、高真空条件下正常使用的真空衬氟设备,解决了现有技术中存在的真空衬氟设备在高温、高真空条件下使用时衬氟层易出现鼓泡、脱落,需要经常维护及修复设备,从而降低设备的使用寿命、降低生产效率、提高生产成本等的技术问题,它包括与真空系统相连的密封结构,在密封结构的内壁面上设有耐腐蚀的氟衬层,在所述氟衬层与密封结构的内壁面之间设有吸附腔,所述吸附腔通过密封结构上的吸附腔排气口与密封结构外的附加真空系统相连通。
公开/授权文献
- CN101850236A 一种高真空衬氟设备 公开/授权日:2010-10-06