发明公开
CN101861536A 耐水性偏光膜的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 耐水性偏光膜的制造方法
- 专利标题(英): Process for producing water-resistant polarizing film
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申请号: CN200980101016.9申请日: 2009-01-23
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公开(公告)号: CN101861536A公开(公告)日: 2010-10-13
- 发明人: 宫崎顺三 , 松田祥一 , 西口恭子
- 申请人: 日东电工株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 日东电工株式会社
- 当前专利权人: 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李茂家
- 优先权: 2008-031346 2008.02.13 JP; 2008-112600 2008.04.23 JP
- 国际申请: PCT/JP2009/051028 2009.01.23
- 国际公布: WO2009/101849 JA 2009.08.20
- 进入国家日期: 2010-05-17
- 主分类号: G02B5/30
- IPC分类号: G02B5/30 ; C09B31/08
摘要:
以往的使有机色素取向的偏光膜使用具有由磺酸离子与1价阳离子相键合的磺酸盐基的有机色素。这样的偏光膜由于有机色素的磺酸盐基溶于水而缺乏耐水性。对此,将磺酸盐基的1价阳离子置换成不溶于水的2价阳离子可以获得耐水性偏光膜。但进行耐水性处理会产生二色性比降低的问题。为了获得二色性比不降低的耐水性偏光膜,进行耐水化处理的偏光膜所用的有机色素内的相邻的磺酸基或磺酸盐基的位置关系至关重要。本发明的耐水性偏光膜的制造方法的特征在于,耐水化处理前的偏光膜包含由下述通式(1)或(2)所示的偶氮化合物20构成的有机色素。
公开/授权文献
- CN101861536B 耐水性偏光膜的制造方法 公开/授权日:2011-11-09