• 专利标题: 改性纳米二氧化硅颗粒增强镍磷复合镀层的方法
  • 专利标题(英): Method for enhancing nickel-phosphorus composite deposit by using modified nano silicon dioxide particles
  • 申请号: CN201010253728.7
    申请日: 2010-08-16
  • 公开(公告)号: CN101906625B
    公开(公告)日: 2012-05-23
  • 发明人: 宿辉
  • 申请人: 宿辉
  • 申请人地址: 黑龙江省哈尔滨市红旗大街999号黑龙江工程学院材料系
  • 专利权人: 宿辉
  • 当前专利权人: 黑龙江工程学院
  • 当前专利权人地址: 黑龙江省哈尔滨市红旗大街999号黑龙江工程学院材料系
  • 主分类号: C23C18/36
  • IPC分类号: C23C18/36
改性纳米二氧化硅颗粒增强镍磷复合镀层的方法
摘要:
本发明公开了一种以改性纳米二氧化硅颗粒增强镍磷复合镀层的方法,其特征是以表面化学镀镍后的纳米二氧化硅粒子为增强体,设计并优化工艺、配方,制备出新型镍磷化学复合镀层,降低了纳米粒子的团聚,提高了粒子在镀层中的分散程度、沉积量及镀层的硬度和耐磨性。该发明属于表面技术、材料制备领域,其结果能广泛应用于机械、电子工业、汽车工业、石油化工、民用等多个领域。采用本方法对原料及生产设备要求低,过程可控性强,所得产品镀层均匀、硬度高、耐磨性、抗高温性能好。
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