发明公开
- 专利标题: 用于形成含有非晶碳膜的构造的分批处理方法
- 专利标题(英): Batch processing method for forming structure including amorphous carbon film
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申请号: CN201010194793.7申请日: 2010-06-04
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公开(公告)号: CN101908481A公开(公告)日: 2010-12-08
- 发明人: 冈田充弘 , 东条行雄
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2009-135483 2009.06.04 JP; 2010-094417 2010.04.15 JP
- 主分类号: H01L21/314
- IPC分类号: H01L21/314 ; C23C16/44 ; C23C16/26
摘要:
本发明提供一种用于形成含有非晶碳膜的构造的分批处理方法,包括下述工序,即、一边对反应室内进行排气一边进行预备,该预备处理是指将上述反应室内的温度加热到800℃~950℃的预备处理温度,并且向上述反应室内供给从由氮气和氨气组成的气体组中选出的预备处理气体,从而去除基底层表面的水;然后,一边对上述反应室内进行排气一边进行主CVD处理,该主CVD处理是指将上述反应室内的温度加热到主处理温度,并且向上述反应室内供给碳化氢气体,从而在基底层上成膜非晶碳膜。
IPC分类: