发明授权
CN101910159B 杂环取代吡啶衍生物的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 杂环取代吡啶衍生物的制备方法
- 专利标题(英): Process for production of heterocycle-substituted pyridine derivative
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申请号: CN200880123026.8申请日: 2008-12-25
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公开(公告)号: CN101910159B公开(公告)日: 2013-06-19
- 发明人: 新岛淳 , 吉泽一洋 , 小坂由纪 , 阿部信也
- 申请人: 卫材R&D管理有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 卫材R&D管理有限公司
- 当前专利权人: 卫材R&D管理有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 杨宏军
- 优先权: 61/016,791 2007.12.26 US
- 国际申请: PCT/JP2008/073545 2008.12.25
- 国际公布: WO2009/081970 JA 2009.07.02
- 进入国家日期: 2010-06-25
- 主分类号: C07D413/04
- IPC分类号: C07D413/04 ; A61P31/10 ; C07D413/14 ; C07F5/02 ; A61K31/4439
摘要:
本发明的目的在于提供一种杂环取代吡啶衍生物的高效制备方法。根据本发明提供一种制备下式(I)表示的化合物的方法,包括在溶剂中在Pd催化剂及碱存在下使下式(III)表示的化合物与下式(II)表示的化合物反应的步骤。式中,R1表示氢原子等;R2表示氢原子、C1-6烷基、可以被保护基保护的氨基等;X及Y中的一个表示氮原子,另一个表示氮原子或氧原子;Q表示离去基团;环A表示可以具有1个或2个卤原子或C1-6烷基的5或6元杂芳环或苯环;Z表示单键、亚甲基、1,2-亚乙基、氧原子等;R表示氢原子或C1-6烷基等;R3表示氢原子、卤原子等;R4表示氢原子或卤原子。其中,Z为单键时或R3为氢原子时,R1、R2及R4不同时为氢原子。
公开/授权文献
- CN101910159A 杂环取代吡啶衍生物的制备方法 公开/授权日:2010-12-08