发明授权
- 专利标题: 载置台装置、处理装置以及温度控制方法
- 专利标题(英): Placing table apparatus, processing apparatus and temperature control method
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申请号: CN200980101584.9申请日: 2009-01-07
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公开(公告)号: CN101911252B公开(公告)日: 2012-05-23
- 发明人: 荻野贵史 , 小松智仁
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 李伟; 舒艳君
- 优先权: 2008-009925 2008.01.19 JP
- 国际申请: PCT/JP2009/050058 2009.01.07
- 国际公布: WO2009/090899 JA 2009.07.23
- 进入国家日期: 2010-06-29
- 主分类号: H01L21/205
- IPC分类号: H01L21/205 ; C23C16/46 ; H01L21/02 ; H01L21/3065 ; H01L21/31
摘要:
本发明提供一种载置台装置、处理装置以及温度控制方法。载置台装置具备:载置台(26),其用于在上表面载置被处理体(W);加热机构(30),其具有在载置台(26)上呈同心状被划分的多个加热区域的每个区域内设置的多个加热器部;腿部(28),其连接于载置台(26)的中心部,在竖立的状态下对上述载置台水平地进行支承;温度测量部(38),其与多个加热区域内的最内周的加热区域对应地设置;电源控制部(42),其基于温度测量部(38)的测量值对最内周的加热器部的温度进行反馈控制,并且利用对最内周的加热器部的安全供给电力比,来控制向其他的加热器部供给的电力,其中该安全供给电力比是以使加热区域间的温度差处于载置台(26)不破损的范围的方式决定的。
公开/授权文献
- CN101911252A 载置台装置、处理装置以及温度控制方法 公开/授权日:2010-12-08
IPC分类: