发明授权
- 专利标题： 激光源和用于制造激光源的方法
- 专利标题（英）： Laser light source and method for producing a laser light source
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申请号： CN200880127211.4申请日： 2008-12-17
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公开(公告)号： CN101946378B公开(公告)日： 2013-03-27
- 发明人: A·莱利 , C·艾克勒 , W·施米德 , S·陶茨 , W·赖尔 , D·迪尼
- 申请人： 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
- 申请人地址： 德国雷根斯堡
- 专利权人： 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
- 当前专利权人： 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
- 当前专利权人地址： 德国雷根斯堡
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 张涛; 李家麟
- 优先权： 102007061923.7 2007.12.21 DE; 102008012859.7 2008.03.06 DE
- 国际申请： PCT/DE2008/002127 2008.12.17
- 国际公布： WO2009/080012 DE 2009.07.02
- 进入国家日期： 2010-08-20
- 主分类号： H01S5/028
- IPC分类号： H01S5/028 ; H01S5/22
摘要：
一种激光源尤其包括具有活性区域(45)和射线输出耦合面(12)的半导体层序列(10)和滤波结构(5)，所述射线输出耦合面(12)具有第一子区域(121)和与第一子区域(10)不同的第二子区域(122)，其中所述活性区域(45)在运行时生成具有第一波长范围的相干的第一电磁射线(51)和具有第二波长范围的不相干的第二电磁射线(52)，所述相干的第一电磁射线(51)沿着辐射方向(90)从第一子区域(121)辐射，不相干的第二电磁射线(52)从第一子区域(121)和第二子区域(122)辐射，第二波长范围包括第一波长范围并且滤波结构(5)至少部分地减弱从活性区域(45)沿着辐射方向(90)辐射的不相干的第二电磁射线(52)。
公开/授权文献
- CN101946378A 激光源和用于制造激光源的方法 公开/授权日：2011-01-12
