发明授权
CN101958509B 氮化镓类半导体激光二极管
失效 - 权利终止
- 专利标题: 氮化镓类半导体激光二极管
- 专利标题(英): Gallium nitride-based semiconductor laser diode
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申请号: CN201010231379.9申请日: 2010-07-15
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公开(公告)号: CN101958509B公开(公告)日: 2013-11-27
- 发明人: 住友隆道 , 盐谷阳平 , 善积祐介 , 上野昌纪 , 秋田胜史 , 京野孝史
- 申请人: 住友电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府大阪市
- 专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府大阪市
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 关兆辉; 穆德骏
- 优先权: 2009-167093 2009.07.15 JP
- 主分类号: H01S5/10
- IPC分类号: H01S5/10 ; H01S5/343
摘要:
一种氮化镓类半导体激光二极管,能够使用半极性面形成500nm以上的光的激光振荡。活性层(29)设置成产生波长500nm以上的光,因此应限制在中心半导体区域(29)的光的波长为长波长,使用双层结构的第一导光层(27)和双层结构的第二导光层(31)。由AlGaN及InAlGaN的至少任意一种构成的包层(21)的材料不同于III族氮化物半导体,并且第一外延半导体区域(15)的厚度(D15)比中心半导体区域(19)的厚度(D19)厚,但第一~第三界面J1、J2、J3上的失配位错密度为1×106cm-1以下。III族氮化物半导体激光二极管中,能够避免c面作为滑移面作用时的晶格驰豫在界面J1、J2、J3的该半导体层中产生。
公开/授权文献
- CN101958509A 氮化镓类半导体激光二极管 公开/授权日:2011-01-26