发明授权

  • 专利标题: 轴对称可变磁场抛光轮
  • 专利标题(英): Axisymmetric variable magnetic field polishing wheel
  • 申请号: CN201010227892.0
    申请日: 2010-07-13
  • 公开(公告)号: CN101972952B
    公开(公告)日: 2012-01-04
  • 发明人: 郭隐彪唐旎林晓辉
  • 申请人: 厦门大学
  • 申请人地址: 福建省厦门市思明南路422号
  • 专利权人: 厦门大学
  • 当前专利权人: 厦门大学
  • 当前专利权人地址: 福建省厦门市思明南路422号
  • 代理机构: 厦门南强之路专利事务所
  • 代理商 马应森
  • 主分类号: B24B1/00
  • IPC分类号: B24B1/00 B24D13/00
轴对称可变磁场抛光轮
摘要:
轴对称可变磁场抛光轮,涉及一种抛光工具。提供一种结构简单且实用,基于磁流变抛光技术,可实现非球面光学元件超精密抛光的轴对称可变磁场抛光轮。设有抛光盘、磁芯、线圈、转动盘、导座、丝杆组和电机。抛光盘固定在主轴上。抛光盘为空壳体结构。第1电机固定在导座上,第1电机驱动丝杆;第2电机控制转动盘;导座置于转动盘上,转动盘固定在抛光盘空壳体内壁;控制抛光盘内所有线圈的磁场强弱和磁场方向;每片抛光区域的磁芯由2块磁体正对放置组成,2块磁体之间留有空隙,2块磁体通过丝杆调整2块磁体之间空隙;磁芯内沿轴向设有至少4个线圈,至少4个线圈在抛光盘每片抛光区域内排列成矩形。
公开/授权文献
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