发明授权
- 专利标题: 感应耦合等离子体处理装置
- 专利标题(英): Inductively coupled plasma processing apparatus
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申请号: CN201010557565.1申请日: 2008-11-21
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公开(公告)号: CN101974735B公开(公告)日: 2014-02-12
- 发明人: 佐藤亮 , 齐藤均 , 山本浩司
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳; 朱弋
- 优先权: 2007-301974 2007.11.21 JP; 2008-259412 2008.10.06 JP
- 分案原申请号: 200810181115X 2008.11.21
- 主分类号: C23C16/44
- IPC分类号: C23C16/44 ; C23C16/455 ; H01L21/306 ; H01L21/205 ; H01J37/32 ; H05H1/46
摘要:
本发明提供一种感应耦合等离子体处理装置和等离子体处理方法,该感应耦合等离子体处理装置能够不提高装置成本和电力成本地在等离子体处理的过程中进行等离子体状态的控制。在处理室(4)的上方,隔着电介质壁(2)配置有通过被供给高频电力在处理室(4)内形成感应电场的高频天线(13),通过等离子体发光状态检测部(40)检测通过感应电场在所述处理室内形成的感应耦合等离子体的发光状态,根据该等离子体发光状态检测部(40)的检测信息,控制单元(50)控制调节包括高频天线的天线电路的特性的调节单元(21),由此控制等离子体状态。
公开/授权文献
- CN101974735A 感应耦合等离子体处理装置 公开/授权日:2011-02-16
IPC分类: