- 专利标题： 用于在激光致等离子体EUV光源中输送靶材料的系统和方法
- 专利标题（英）： Systems and methods for target material delivery in laser produced plasma EUV light source
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申请号： CN200980109891.1申请日： 2009-02-17
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公开(公告)号： CN101978792B公开(公告)日： 2014-05-14
- 发明人: G·O·瓦斯恩寇 , A·N·贝卡诺弗 , N·R·鲍尔林 , D·C·勃兰特 , A·I·叶尔绍夫 , R·D·西蒙斯 , O·V·霍迪金 , I·V·福缅科夫
- 申请人： 西默股份有限公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 西默股份有限公司
- 当前专利权人： ASML,荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 刘佳
- 优先权： 61/069,818 2008.03.17 US; 12/214,736 2008.06.19 US
- 国际申请： PCT/US2009/000994 2009.02.17
- 国际公布： WO2009/117048 EN 2009.09.24
- 进入国家日期： 2010-09-16
- 主分类号： H05G2/00
- IPC分类号： H05G2/00
摘要：
本发明公开了多个设备，这些设备可包括EUV反射光学装置，该光学装置具有限定旋转轴和圆形外围的旋转表面。该光学装置可被定位成使其轴相对于水平面以非零角度倾斜，并在水平面中建立该外围的垂直投影，且该外围投影在水平面中约束一区域。该设备可进一步包括输送靶材料的系统，该系统具有位于水平面中且在由该外围投影所约束的区域之外的靶材料释放点，以及产生激光束以辐照该靶材料以产生EUV发射的系统。
公开/授权文献
- CN101978792A 用于在激光致等离子体EUV光源中输送靶材料的系统和方法 公开/授权日：2011-02-16