Invention Publication
- Patent Title: 用于降低半导体加工期间挠性基材的翘曲度和弯曲度的组件和方法
- Patent Title (English): Assemblies and methods for reducing warp and bow of a flexible substrate during semiconductor processing
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Application No.: CN200980111340.9Application Date: 2009-04-06
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Publication No.: CN101980861APublication Date: 2011-02-23
- Inventor: S·奥罗尔科 , D·罗伊 , H·江
- Applicant: 亚利桑那董事会 , 代表亚利桑那州立大学行事的亚利桑那州法人团体
- Applicant Address: 美国亚利桑那
- Assignee: 亚利桑那董事会,代表亚利桑那州立大学行事的亚利桑那州法人团体
- Current Assignee: 亚利桑那董事会,代表亚利桑那州立大学行事的亚利桑那州法人团体
- Current Assignee Address: 美国亚利桑那
- Agency: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- Agent 柳冀
- Priority: 61/043,223 2008.04.08 US
- International Application: PCT/US2009/039577 2009.04.06
- International Announcement: WO2009/126544 EN 2009.10.15
- Date entered country: 2010-09-28
- Main IPC: B32B7/12
- IPC: B32B7/12 ; B32B15/08 ; B32B27/36 ; H01L23/498 ; H05K3/00

Abstract:
描述了用于解决与刚性载体连接的挠性基材由于半导体加工的热挑战而发生弯曲和/或翘曲的方法。特别地,提供了可将挠性基材粘结到刚性载体并且调节由于大多数挠性基材相对于刚性载体的显著不同材料性能而经常存在的热不匹配的粘弹性粘合剂,所述挠性基材例如塑料膜,所述刚性载体例如硅晶片。还提供了根据本文所描述的方法制得的组件。
Public/Granted literature
- CN101980861B 用于降低半导体加工期间挠性基材的翘曲度和弯曲度的组件和方法 Public/Granted day:2014-08-06
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