Invention Grant
- Patent Title: 用于光刻术的检查设备
- Patent Title (English): Inspection apparatus for lithography
-
Application No.: CN200980117044.XApplication Date: 2009-04-27
-
Publication No.: CN102027416BPublication Date: 2013-10-09
- Inventor: M·A·范德柯克霍夫
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 王波波
- Priority: 61/071,673 2008.05.12 US
- International Application: PCT/EP2009/003051 2009.04.27
- International Announcement: WO2009/138162 EN 2009.11.19
- Date entered country: 2010-11-11
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; G01N21/21 ; G01N21/27
Abstract:
本发明涉及检测位于图案中的目标。本发明通过从所述周围图案滤出傅里叶变换而在光瞳平面中操作。具体地，所述方法包括在反射的辐射数据上进行傅里叶变换以形成傅里叶变换数据；移除傅里叶变换数据中对应于所述目标的部分，以形成简化的傅里叶变换数据；对被移除的所述简化的傅里叶变换数据的所述部分进行插值，以形成产品傅里叶变换数据；和从所述傅里叶变换数据减去所述产品傅里叶变换数据。
Public/Granted literature
- CN102027416A 用于光刻术的检查设备 Public/Granted day:2011-04-20
Information query
IPC分类:
