Invention Grant
CN102036917B 非线性光学方法和结构
失效 - 权利终止
- Patent Title: 非线性光学方法和结构
- Patent Title (English): Method and structure for nonlinear optics
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Application No.: CN200980118865.5Application Date: 2009-03-09
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Publication No.: CN102036917BPublication Date: 2014-04-02
- Inventor: 西奥多·阿列凯尔
- Applicant: 深光子学公司
- Applicant Address: 美国华盛顿州
- Assignee: 深光子学公司
- Current Assignee: 深光子学公司
- Current Assignee Address: 美国华盛顿州
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 顾晋伟; 吴鹏章
- Priority: 61/044,413 2008.04.11 US; 12/140,162 2008.06.16 US
- International Application: PCT/US2009/036567 2009.03.09
- International Announcement: WO2009/126391 EN 2009.10.15
- Date entered country: 2010-11-23
- Main IPC: C01F17/00
- IPC: C01F17/00 ; G02F1/35
Abstract:
提供一种化学式为YiLajAlkB16O48的非线性光学晶体，其中2.8≤i≤3.2，0.8≤j≤1.2，i和j之和为约4并且k为约12。该非线性光学晶体可用于包括变频的非线性光学应用。在特定实施方案中，非线性光学晶体的特征在于UV抑制杂质(例如某些过渡金属和镧系元素)的浓度低于1000ppm，以提供在部分UV谱(例如175-360nm)中的高透射率。
Public/Granted literature
- CN102036917A 非线性光学方法和结构 Public/Granted day:2011-04-27
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IPC分类:
