发明授权
CN102061512B 通过再熔化颗粒制造由硅构成的单晶体的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 通过再熔化颗粒制造由硅构成的单晶体的方法
- 专利标题(英): Method for producing a single crystal of silicon by remelting granules
-
申请号: CN201010294175.X申请日: 2010-09-21
-
公开(公告)号: CN102061512B公开(公告)日: 2013-12-11
- 发明人: W·冯阿蒙 , L·阿尔特曼绍夫尔 , M·瓦斯纳
- 申请人: 硅电子股份公司
- 申请人地址: 德国慕尼黑
- 专利权人: 硅电子股份公司
- 当前专利权人: 硅电子股份公司
- 当前专利权人地址: 德国慕尼黑
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 蔡洪贵
- 优先权: 102009052745.1 2009.11.11 DE
- 主分类号: C30B11/00
- IPC分类号: C30B11/00 ; C30B13/20
摘要:
本发明涉及一种通过再熔化颗粒制造由硅构成的单晶体的方法,包括:借助于设置在由硅构成的转动板的下方的感应加热线圈,使单晶体的锥形延伸区段结晶;以及通过板中的锥形管将被感应熔化的硅供给到熔融体,所述管环绕板的中心开口且延伸到板的下方,所述熔融体位于单晶体的锥形延伸区段上,且与锥形管的管端接触,其中,借助于设置在板的下方的感应加热线圈,提供足够的能量,以便在单晶体的锥形延伸区段具有15-30mm的直径且结晶时使管端的外径不小于15mm。
公开/授权文献
- CN102061512A 通过再熔化颗粒制造由硅构成的单晶体的方法 公开/授权日:2011-05-18
IPC分类: