- 专利标题: 碲镉汞液相外延系统生长起始温度的精确控制方法
- 专利标题(英): Precise control method for growth starting temperature of mercury cadmium telluride liquid phase epitaxy system
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申请号: CN201010565049.3申请日: 2010-11-26
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公开(公告)号: CN102061518B公开(公告)日: 2012-06-27
- 发明人: 张传杰 , 陈晓静 , 魏彦锋 , 杨建荣
- 申请人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 申请人地址: 上海市玉田路500号
- 专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海技术物理研究所
- 当前专利权人地址: 上海市玉田路500号
- 代理机构: 上海新天专利代理有限公司
- 代理商 郭英
- 主分类号: C30B25/16
- IPC分类号: C30B25/16 ; C30B29/46
摘要:
本发明公开了一种碲镉汞垂直液相外延工艺中的起始生长温度精确控制方法,其特征是:在预生长之前增加一个二次降温过程,保证预生长温度高于生长温度并在一个允许范围内;在母液温度接近需要控制的开始生长温度前进行一次尝试性的短时间生长,观察样品架温度的变化情况来决定正式开始生长的时机。该方法的优点是:可以精确控制碲镉汞垂直液相外延系统的起始生长温度,既不会因为碲锌镉衬底过分回融导致生长组分偏高,也不会因为起始生长温度过低,导致样品架和衬底表面严重疯长,影响外延层的质量和外延的成品率。
公开/授权文献
- CN102061518A 碲镉汞液相外延系统生长起始温度的精确控制方法 公开/授权日:2011-05-18
IPC分类: