聚(5,5′-二(噻吩-2-基)苯并[2,1-b;3,4-b′]二噻吩)及其作为高性能可溶液加工半导体聚合物的用途
摘要:
包含式(I)的基团作为重复单元并且具有5,000-200,000g/mol的数均分子量Mn的聚(5,5′-二(噻吩-2-基)苯并[2,1-b;3,4-b’]二噻吩),其中R独立地选自a)C1-20烷基,b)C2-20链烯基,c)C2-20炔基,d)C1-20烷氧基,e)-Y-C3-10环烷基,f)-Y-C6-14芳基,g)-Y-3-12元环杂烷基或h)-Y-5-14元杂芳基,其中C1-20烷基、C2-20链烯基、C2-20炔基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基各自任选被1-4个基团R1取代,R1独立地选自a)S(O)m-C1-20烷基,b)S(O)m-OC1-20烷基,c)S(O)m-OC6-14芳基,d)C(O)-OC1-20烷基,e)C(O)-OC6-14芳基,f)C1-20烷基,g)C2-20链烯基,h)C2-20炔基,i)C1-20烷氧基,j)C3-10环烷基,k)C6-14芳基,l)3-12元环杂烷基或m)5-14元杂芳基,Y独立地选自二价C1-6烷基,或共价键;和m独立地选自0、1或2。
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