发明公开
- 专利标题: 真空规管
- 专利标题(英): Vacuum gauge
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申请号: CN201010618202.4申请日: 2010-12-31
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公开(公告)号: CN102087949A公开(公告)日: 2011-06-08
- 发明人: 魏洋 , 范守善
- 申请人: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 专利权人: 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人: 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 主分类号: H01J41/06
- IPC分类号: H01J41/06
摘要:
本发明提供一种真空规管,其包括:一冷阴极,其包括一阴极发射单元和与所述阴极发射单元相对设置的一栅极;一屏蔽极,其包括一收容空间和两个端部,该屏蔽极的一端与所述冷阴极相对设置;一阳极环,该阳极环设置于所述屏蔽极的收容空间内;一收集极,其与所述屏蔽极的另一端相对设置;所述阴极发射单元包括至少一电子发射体,该所述电子发射体包括一碳纳米管管状结构,所述碳纳米管管状结构具有一中空的线状轴心,所述碳纳米管管状结构为多个碳纳米管围绕该中空的线状轴心组成,所述碳纳米管管状结构沿所述线状轴心的一端延伸出多个电子发射尖端。本发明提供的真空规管具有良好的灵敏度。
公开/授权文献
- CN102087949B 真空规管 公开/授权日:2012-11-21