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CN102089713B 用于光刻设备的光学元件、包括这种光学元件的光刻设备以及制造该光学元件的方法 有权

用于光刻设备的光学元件、包括这种光学元件的光刻设备以及制造该光学元件的方法
摘要：
本发明公开了一种光刻设备，包括光学元件，所述光学元件包括定向的碳纳米管薄层。所述光学元件具有大约20-500nm范围的元件厚度，并且在用EUV辐射垂直照射的条件下对波长范围为大约1-20nm的EUV辐射具有至少20％的透射率。定向的碳纳米管薄层本身可以用作光学元件，并且可以设计用以减少碎片和/或提高EUV与不想要的辐射的比值。薄层由于其强度不必需要支撑。本发明的光学元件可以是非支撑的。
摘要（英）：

A lithographic apparatus includes an optical element that includes an oriented carbon nanotube sheet. The optical element has an element thickness in the range of about 20-500 nm and has a transmission for EUV radiation having a wavelength in the range of about 1-20 nm of at least about 20% under perpendicular irradiation with the EUV radiation.

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