发明授权
- 专利标题: 用于高生产量原子层沉积的设备和方法
- 专利标题(英): Apparatus and method for high-throughput atomic layer deposition
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申请号: CN200980128427.7申请日: 2009-05-20
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公开(公告)号: CN102112658B公开(公告)日: 2013-11-13
- 发明人: 恩斯特·H·A·格兰内曼 , 塞巴斯蒂安·E·范诺藤
- 申请人: 阿斯莫国际公司
- 申请人地址: 荷兰阿尔莫勒
- 专利权人: 阿斯莫国际公司
- 当前专利权人: 阿斯莫国际公司
- 当前专利权人地址: 荷兰阿尔莫勒
- 代理机构: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 余刚; 吴孟秋
- 优先权: 12/123,745 2008.05.20 US
- 国际申请: PCT/NL2009/050271 2009.05.20
- 国际公布: WO2009/142488 EN 2009.11.26
- 进入国家日期: 2011-01-20
- 主分类号: C23C16/54
- IPC分类号: C23C16/54 ; C23C16/455
摘要:
一种以连续方式沉积膜的原子层沉积设备。本设备包括沿运输方向延伸并且至少由第一和第二壁限定的加工隧道。这些壁相互平行并且允许平的衬底容纳在它们之间。本设备进一步包括运输系统,以使一排衬底或带子形状的连续衬底移动而通过隧道。至少加工隧道的第一壁设置有多个气体注入通道,在运输方向上观看,这多个气体注入通道分别相继连接到第一前驱气体源、净化气体源、第二前驱气体源和净化气体源,从而形成这样的隧道区段,在使用中该隧道区段包括分别装有第一前驱气体、净化气体、第二前驱气体和净化气体的连续区域。
公开/授权文献
- CN102112658A 用于高生产量原子层沉积的设备和方法 公开/授权日:2011-06-29
IPC分类: