发明授权
CN102144285B 静电吸盘装置和基片的吸附状态判断方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 静电吸盘装置和基片的吸附状态判断方法
- 专利标题（英）： Electrostatic chuck device and method for determining adsorbed state of wafer
-
申请号： CN200980134448.X申请日： 2009-08-26
-
公开(公告)号： CN102144285B公开(公告)日： 2013-01-02
- 发明人: 藤泽博
- 申请人： 创意科技股份有限公司
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 创意科技股份有限公司
- 当前专利权人： 创意科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 王永刚
- 优先权： 2008-226664 2008.09.04 JP
- 国际申请： PCT/JP2009/064831 2009.08.26
- 国际公布： WO2010/026893 JA 2010.03.11
- 进入国家日期： 2011-03-04
- 主分类号： H01L21/683
- IPC分类号： H01L21/683 ; H02N13/00 ; B23Q3/15
摘要：
本发明提供具有能够迅速且正确地把握基片的吸附状态的吸附判断单元的静电吸盘装置，并提供能够迅速且正确地把握静电吸盘装置中的基片的吸附状态的基片的吸附状态判断方法。该静电吸盘装置在金属基盘的上表面侧具有吸附基片的静电吸盘，其特征在于：具有用来判断基片的吸附状态的吸附判断单元。该基片的吸附状态判断方法是在静电吸盘装置中判断基片的吸附状态的方法，该静电吸盘装置在金属基盘的上表面侧具有吸附基片的静电吸盘，其特征在于：利用热流束传感器得到通过静电吸盘传递的来自基片的热流，从而判断基片的吸附状态。
公开/授权文献
- CN102144285A 静电吸盘装置和基片的吸附状态判断方法 公开/授权日：2011-08-03
IPC分类:
