发明公开
- 专利标题: 一种电阻转换存储器结构及其制造方法
- 专利标题(英): Resistance conversion memory structure and manufacturing method thereof
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申请号: CN201110026033.X申请日: 2011-01-24
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公开(公告)号: CN102148329A公开(公告)日: 2011-08-10
- 发明人: 张挺 , 朱南飞 , 宋志棠 , 刘波 , 吴关平 , 张超 , 谢志峰 , 封松林
- 申请人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 申请人地址: 上海市长宁区长宁路865号
- 专利权人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 当前专利权人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 当前专利权人地址: 上海市长宁区长宁路865号
- 代理机构: 上海光华专利事务所
- 代理商 李仪萍
- 主分类号: H01L45/00
- IPC分类号: H01L45/00
摘要:
本发明揭示了一种电阻转换存储器结构及其制造方法,该电阻转换存储器结构,包括:多个选通单元和多个电阻转换存储单元;其中,每一个选通单元对应两个电阻转换存储单元;所述电阻转换存储单元包括上电极、下电极和夹在所述上、下电极之间的存储材料;所述存储材料与上、下电极的接触面积不等;所述下电极周围包覆有绝缘材料,下电极形成于该绝缘材料的夹缝中,其在垂直下电极表面方向的投影为条形,条形的长宽比大于3∶1;并且所述存储材料部分或者全部嵌在所述绝缘材料之中。本发明的存储器结构具有较高的密度、较低的功耗以及较为简单的工艺,因此在器件的性能和成本上都具有明显的优势。
公开/授权文献
- CN102148329B 一种电阻转换存储器结构及其制造方法 公开/授权日:2013-11-27
IPC分类: