发明授权
- 专利标题: 悬喷式MOCVD反应器
- 专利标题(英): Suspended spraying type metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) reactor
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申请号: CN201110160623.1申请日: 2011-06-15
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公开(公告)号: CN102234792B公开(公告)日: 2012-12-05
- 发明人: 颜秀文 , 李加军 , 贾京英
- 申请人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
- 申请人地址: 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第四十八研究所
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
- 代理机构: 长沙正奇专利事务所有限责任公司
- 代理商 马强
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455 ; C30B25/16
摘要:
本发明涉及一种能够用于大批量LED外延生长的悬喷式MOCVD反应器,包括喷嘴、基座、盖板、导流孔和反应区,喷嘴置于基座中心,喷嘴包括上喷嘴和下喷嘴,下喷嘴位于上喷嘴下部,且上喷嘴和下喷嘴分别设有两个径向通道;所述基座包括大石墨盘,所述大石墨盘内沿圆周方向设有小石墨盘,各小石墨盘内沿圆周方向设有晶片衬底,大石墨盘底部设有公转驱动机构,各小石墨盘底部设有自转驱动机构;反应区腔体内壁沿圆周方向设有导流孔。本发明作为一种悬喷式MOCVD反应器,可提高薄膜沉积的均匀性和源材料利用率,延长基座石墨盘寿命,还可改进源气体引入和载气的分布,优化反应器尺寸和盖板曲面设计,抑制涡流的产生。
公开/授权文献
- CN102234792A 悬喷式MOCVD反应器 公开/授权日:2011-11-09
IPC分类: