发明公开
- 专利标题: 用于生产防伪元件的方法和转印膜
- 专利标题(英): Method for producing a security element and transfer film
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申请号: CN200980151582.0申请日: 2009-12-11
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公开(公告)号: CN102245394A公开(公告)日: 2011-11-16
- 发明人: C·施特雷布 , S·M·埃普 , A·汉森
- 申请人: OVD基尼格拉姆股份公司
- 申请人地址: 瑞士楚格
- 专利权人: OVD基尼格拉姆股份公司
- 当前专利权人: OVD基尼格拉姆股份公司
- 当前专利权人地址: 瑞士楚格
- 代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 顾峻峰; 李丹丹
- 优先权: 102008062149.8 2008.12.16 DE
- 国际申请: PCT/EP2009/008871 2009.12.11
- 国际公布: WO2010/072339 DE 2010.07.01
- 进入国家日期: 2011-06-15
- 主分类号: B42D15/10
- IPC分类号: B42D15/10 ; B42D15/00
摘要:
本发明涉及一种用于生产防伪元件的方法和一种转印膜。所述转印膜具有基质膜(10),所述基质膜(10)包括第一载体膜(11)和单层或多层装饰层。第一粘合层(30)施用于所述第一载体膜(11)背向所述装饰层的表面,并且以这样的方式施加第二载体膜(40),使得第一粘合层(30)排列在所述第一载体膜(11)和所述第二载体膜(40)之间。第一粘合层(30)在第一区域(31)中活化,第一区域(31)至少部分地覆盖所述基质膜(10)的至少一个第一部分区域(21),但所述第一粘合层(30)在与所述区域(31)相邻的第二区域(32)是未活化、未设置、仅部分设置或去活的。再将所述第一载体膜(11)至少部分地沿界线切断,所述界线限定出至少一个第一部分区域(21)并分隔所述基质膜(10)的所述至少一个第一部分区域(21)与第二部分区域(22)。所述基质膜(10)的第二部分从所述第二载体膜(40)上去除,所述第二部分包括所述第二部分区域(22),其中,在所述至少一个第一部分区域(21)中,所述基质膜(10)通过所述活化的第一粘合层粘附于所述第二载体膜(40),并且所述基质膜(10)的第一部分保留在所述第二载体膜(40)上,所述第一部分包括所述至少一个第一部分区域(21)。
公开/授权文献
- CN102245394B 用于生产防伪元件的方法和转印膜 公开/授权日:2014-09-17