本发明实施例提供一种MOCVD设备的喷淋头及其制作方法和使用方法，其中所述制作方法包括：制作喷淋头主体；在所述喷淋头主体表面形成可再生保护层，所述可再生保护层用于保护所述喷淋头主体免于MOCVD过程中化学反应气体和/或等离子体的刻蚀。形成的喷淋头包括：喷淋头主体；可再生保护层，位于所述喷淋头主体的外表，所述可再生保护层用于保护所述喷淋头主体。所述使用方法包括：在所述喷淋头使用一段时间后，对所述可再生材料层进行循环再生，在所述可再生材料层表面形成循环保护层。本发明实施例可以有效保护喷淋头，延长喷淋头的使用寿命，并且提高形成的外延层的质量和MOCVD设备的利用率。