发明授权
- 专利标题： 一种中、低频等离子体加工设备和电极板
- 专利标题（英）： Intermediate/low-frequency plasma processing device and electrode plates
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申请号： CN201010197959.0申请日： 2010-06-03
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公开(公告)号： CN102271454B公开(公告)日： 2013-09-11
- 发明人: 朱桂林
- 申请人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼
- 专利权人： 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
- 当前专利权人： 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼
- 代理机构： 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号： H05H1/46
- IPC分类号： H05H1/46 ; C23C4/12 ; C23C4/10
摘要：
本发明公开了一种中、低频等离子体加工设备和电极板，涉及等离子体加工技术领域，为提高工艺过程中等离子体密度，并且适用于高温工艺环境而发明。本发明公开的中、低频等离子体加工设备，包括反应腔室、在反应腔室内部相对设置的上电极板和下电极板，所述上电极板为不锈钢板，所述上电极板与所述反应腔室内等离子体接触的表面设有涂层。本发明可用于等离子体加工技术中。
公开/授权文献
- CN102271454A 一种中、低频等离子体加工设备和电极板 公开/授权日：2011-12-07
IPC分类:
