利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明授权
CN102271881B 将结构引入衬底中的方法 有权 转让

将结构引入衬底中的方法
摘要：
本发明涉及用于产生微结构衬底的方法以及它们在自然科学和技术中的应用，特别是在半导体、微流体和分析设备中。涉及通过提供受控电气放电，引入诸如孔或空腔或沟道或井或凹进的结构或结构变化的方法。
摘要（英）：

This invention relates to methods for the production of micro-structured substrates and their application in natural sciences and technology, in particular in semiconductor, microfluidic and analysis devices. It concerns a method of introducing a structure, such as a hole or cavity or channel or well or recess or a structural change by providing a controlled electrical discharge.

公开/授权文献
0/0