发明公开
- 专利标题: 单晶制造装置、单晶的制造方法及单晶
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申请号: CN201080004316.8申请日: 2010-01-08
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公开(公告)号: CN102272359A公开(公告)日: 2011-12-07
- 发明人: 藤井俊辅 , 川濑智博 , 羽木良明 , 桥尾克司
- 申请人: 住友电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人: 住友电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理商 谢丽娜; 关兆辉
- 优先权: 2009-003947 2009.01.09 JP; 2009-003948 2009.01.09 JP
- 国际申请: PCT/JP2010/050149 2010.01.08
- 国际公布: WO2010/079826 JA 2010.07.15
- 进入国家日期: 2011-07-11
- 主分类号: C30B11/00
- IPC分类号: C30B11/00 ; C30B29/42
摘要:
提供一种可通过较简单的构造获得良好品质的单晶的单晶制造装置、单晶的制造方法及单晶,单晶制造装置(1)将坩埚(4)中保持的原料加热熔化后,使其从一个方向凝固,从而制造出单晶,具有安瓿(3)及坩埚(4)、底座(2)、加热器(5),底座(2)支撑安瓿(3),加热器(5)用于加热安瓿(3)及坩埚(4),构成底座(2)的材料的导热率为0.5W/(m·K)以上、应形成的单晶的导热率的值以下,构成底座(2)的材料中,波长为1600nm以上、2400nm以下的光相对于厚4mm的该材料的透光率为10%以下。
公开/授权文献
- CN102272359B 单晶制造装置、单晶的制造方法及单晶 公开/授权日:2014-05-21