发明授权
CN102280400B 一种激光束加工处理中的晶圆片对准方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种激光束加工处理中的晶圆片对准方法
- 专利标题(英): Wafer aligning method in laser beam processing
-
申请号: CN201110261070.9申请日: 2011-09-05
-
公开(公告)号: CN102280400B公开(公告)日: 2013-02-27
- 发明人: 严利人 , 周卫 , 刘朋 , 窦维治
- 申请人: 清华大学
- 申请人地址: 北京市海淀区100084-82信箱
- 专利权人: 清华大学
- 当前专利权人: 清华大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区100084-82信箱
- 代理机构: 北京众合诚成知识产权代理有限公司
- 代理商 史双元
- 主分类号: H01L21/68
- IPC分类号: H01L21/68 ; H01L21/268
摘要:
本发明公开了属于半导体制造技术范围的一种激光束加工处理中晶圆片的对准的方法。具体的做法是,采用分离的对准片台来实现晶圆片的对准,然后由精密机械手,在保持对准结果不再发生不需要的变化的情况下,将晶圆片送入到工艺腔片台之上。使得芯片间的划片道成为了可利用的资源,可以将激光束加工处理中难以精确控制的光束边缘效应,消耗在不影响芯片功能与性能的划片道之中。以另一个对准片台为主的相对独立的对准机构,通过在对准片台上的粗对准和精对准步骤,以及精密机械手传片,使得最终放置在加工片台上的晶圆片具有了良好的定位精度,因而激光光束的加工处理能够更为有效地集中在芯片区域,保证工艺效果和激光加工的均匀性。
公开/授权文献
- CN102280400A 一种激光束加工处理中的晶圆片对准方法 公开/授权日:2011-12-14
IPC分类: