Invention Publication
CN102290129A 导电膜及其制备方法
无效 - 撤回
- Patent Title: 导电膜及其制备方法
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Application No.: CN201110169259.5Application Date: 2011-06-17
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Publication No.: CN102290129APublication Date: 2011-12-21
- Inventor: 一木晃
- Applicant: 富士胶片株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 富士胶片株式会社
- Current Assignee: 富士胶片株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 苗征; 于辉
- Priority: 139825/2010 2010.06.18 JP
- Main IPC: H01B5/14
- IPC: H01B5/14 ; H01B13/00 ; G06F3/041 ; G03F7/00

Abstract:
本发明公开了导电膜(100),其具有透明支持体(102)、设置在透明支持体(102)的一个主表面上的第一导电银图像(104a)和设置在透明支持体(102)的另一主表面上的第二导电银图像(104b)。通过以下步骤得到第一导电银图像和第二导电银图像(104a、104b):在透明支持体(102)的各表面上形成至少一层卤化银乳剂层,然后将所述卤化银乳剂层曝光并显影。第一银图像(104a)和第二银图像(104b)各在需要透明的区域含有网状结构。所述网状结构包含线宽为10μm或更小的细线,并形成薄片电阻为50ohm/sq或更小的导电层。
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