一种大磁电阻效应Fe-Ti-O非晶态薄膜的制备方法，采用超高真空三靶共沉积磁控溅射镀膜机制备，本步骤如下：1)在镀膜机的靶头上分别安装一个Ti靶和Fe靶；2)将玻璃基底安装基底架上；3)开启磁控溅射设备给溅射室抽真空；4)向真空室通入O2和Ar的混合气体，使得真空室中的真空度为1Pa；5)开启溅射直流电源，分别在Ti靶Fe靶上施加电流和电压；6)打开基片的挡板，转动基片架，在基片上生长薄膜；7)溅射完成后，向真空室充入氮气，即可制得的目标产品。本发明的优点是：该工艺方法工艺简单、易于实施，制得的薄膜具有较高的室温磁电阻效应；生产成本低，适于大规模推广应用。