发明公开
- 专利标题: 光电转换半导体层、其制备方法、光电转换装置和太阳能电池
- 专利标题(英): Photoelectric conversion semiconductor layer, manufacturing method thereof, photoelectric conversion device, and solar cell
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申请号: CN201080013815.3申请日: 2010-03-23
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公开(公告)号: CN102365752A公开(公告)日: 2012-02-29
- 发明人: 佐藤忠伸 , 菊池信
- 申请人: 富士胶片株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都
- 专利权人: 富士胶片株式会社
- 当前专利权人: 富士胶片株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 陈平
- 优先权: 2009-076517 2009.03.26 JP; 2009-232122 2009.10.06 JP
- 国际申请: PCT/JP2010/055489 2010.03.23
- 国际公布: WO2010/110467 EN 2010.09.30
- 进入国家日期: 2011-09-26
- 主分类号: H01L31/04
- IPC分类号: H01L31/04
摘要:
本发明提供一种光电转换半导体层,所述光电转换半导体层能够在厚度方向提供势能梯度,可以以比通过真空成膜形成层的成本更低的成本被制备,并且能够提供高光电转换效率。光电转换层(30X)通过吸收光产生电流,并且由其中在平面和厚度方向上设置多个粒子(31)的粒子层形成。光电转换层(30X)包含具有不同带隙的多种粒子作为多个粒子(31),并且该层的势能在厚度方向上分布。
IPC分类: