发明授权
CN102399092B 掺氮纳米金刚石薄膜的制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 掺氮纳米金刚石薄膜的制备方法
- 专利标题(英): Preparation method for nitrogen-doped nano-diamond thin film
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申请号: CN201010277501.6申请日: 2010-09-09
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公开(公告)号: CN102399092B公开(公告)日: 2013-01-09
- 发明人: 王兵
- 申请人: 西南科技大学
- 申请人地址: 四川省绵阳市青龙大道中段59号
- 专利权人: 西南科技大学
- 当前专利权人: 西南科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省绵阳市青龙大道中段59号
- 代理机构: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司
- 代理商 卿诚; 吴彦峰
- 主分类号: C04B41/50
- IPC分类号: C04B41/50
摘要:
本发明是掺氮纳米金刚石薄膜的制备方法。包括:a、以硝基苯甲醛、C60、氨基酸为原料,合成得到C60含氮衍生物;b、将C60含氮衍生物溶入甲苯中形成甲苯溶液,放入液态源容器中;c、将单晶硅基片放入微波等离子体反应腔中的样品台上,开启微波发生器,并向液态源容器通入氩气,通过液体鼓泡法用氩气将C60含N衍生物分子载入反应腔中并在微波能激励下共同形成等离子体金刚石薄膜。本发明生成的掺氮纳米金刚石薄膜电子电导率大,最高达1.31×102Ω-1cm-1,迁移率也较高,对应电导率最大值时可到22cm2/V·s。本发明制备高电导率n型金刚石膜方法简便,实施容易。
公开/授权文献
- CN102399092A 掺氮纳米金刚石薄膜的制备方法 公开/授权日:2012-04-04