发明公开
- 专利标题: 待安装在可变的净空间隙中的辐射屏蔽体
- 专利标题(英): Expansion gap radiation shield
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申请号: CN201080021950.2申请日: 2010-03-03
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公开(公告)号: CN102439667A公开(公告)日: 2012-05-02
- 发明人: J·塞加瓦尔
- 申请人: 西屋电气有限责任公司
- 申请人地址: 美国宾夕法尼亚州
- 专利权人: 西屋电气有限责任公司
- 当前专利权人: 西屋电气有限责任公司
- 当前专利权人地址: 美国宾夕法尼亚州
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 侯海燕
- 优先权: 61/180,211 2009.05.21 US; 12/715,420 2010.03.02 US
- 国际申请: PCT/US2010/026007 2010.03.03
- 国际公布: WO2010/135015 EN 2010.11.25
- 进入国家日期: 2011-11-21
- 主分类号: G21F1/02
- IPC分类号: G21F1/02 ; G21F3/00
摘要:
一种膨胀间隙辐射屏蔽体,其由柔性的容器形成,该容器容纳辐射屏蔽流体,它位于永久屏蔽物中的可变间隙内。本发明降低了当辐射源位于间隙的相对侧上时该间隙外面的辐射计量率。该装置适应可变的间隙尺寸而没有损失屏蔽能力。
公开/授权文献
- CN102439667B 待安装在可变的净空间隙中的辐射屏蔽体及发电设施 公开/授权日:2015-01-21