本发明涉及一种光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜。该光硬化性聚硅氧烷组成物包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于500～50000的信号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量大于8000者占30％以下，分子量介于500～2000者占35～60％。本发明也提供一种通过将该光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的保护膜，及一具有保护膜的元件。本发明的光硬化性聚硅氧烷组成物具有显影性佳及膜厚均一等特性。