发明授权
- 专利标题: 阵列基板及其制造方法和有源显示器
- 专利标题(英): Array substrate, manufacturing method thereof, and active display
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申请号: CN201010540705.4申请日: 2010-11-10
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公开(公告)号: CN102468231B公开(公告)日: 2014-03-26
- 发明人: 李文波 , 王刚 , 张卓 , 武延兵
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 许静
- 主分类号: H01L21/77
- IPC分类号: H01L21/77 ; H01L27/12 ; G02F1/167 ; G02F1/1362 ; G02F1/1334 ; G02F1/1333
摘要:
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法和有源显示器,该方法包括:在第一衬底基板上依次形成栅金属薄膜、栅绝缘层和有源层薄膜;在有源层薄膜上涂覆光刻胶,曝光显影;刻蚀掉光刻胶完全去除区域对应的栅金属薄膜、栅绝缘层和有源层薄膜,形成包括栅线和栅电极的图案;刻蚀掉光刻胶部分保留区域对应的栅绝缘层和有源层薄膜,形成包括栅线和公共电极线的图案;在形成上述图案的第一衬底基板上形成第一绝缘层薄膜;将光刻胶完全保留区域的光刻胶及其上的第一绝缘层薄膜剥离;接着形成源电极、漏电极、数据线、像素电极、有源层沟道及钝化层。本发明简化阵列基板的制备流程,降低制造成本。
公开/授权文献
- CN102468231A 阵列基板及其制造方法和有源显示器 公开/授权日:2012-05-23
IPC分类: